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ÀÛ¼ºÀÏ 2024-10-04 Á¶È¸¼ö 454
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PHM Korea 2024 ¿ì¼ö¹ßÇ¥»ó ¹× ¿ì¼öÆ÷½ºÅÍ»ó ¼ö»óÀÚ ¾È³»


PHM Korea 2024(2024. 6. 24. ~ 26., ´õÄÉÀÌÈ£ÅÚ¼­¿ï)ÀÇ ¿ì¼ö¹ßÇ¥»ó ¹× ¿ì¼öÆ÷½ºÅÍ»óÀ» ¾Æ·¡ Ç¥¿Í °°ÀÌ ¾È³»µå¸³´Ï´Ù. 


 PHM Korea 2024 ¿ì¼ö¹ßÇ¥»ó
 ´ë¸® ¸ðµ¨¸µÀ¸·ÎºÎÅÍ ÀÚÀ² °Ë»ç·Î ³ª¾Æ°¡´Â ÀΰøÁö´É ±â¹Ý ºñÆı«Æò°¡ ¼­È£°Ç(Çѱ¹¿øÀڷ¿¬±¸¿ø)
 µ¥ÀÌÅͱâ¹Ý º¸ÀÏ·¯ °ÇÀü¼º Áö¼ö ¹× ¸ð´ÏÅ͸µ ¹æ¹ý·Ð °³¹ß  ¼Õ¼º°ü(Á¶¼±´ëÇб³)
 Çؼ® ±â¹Ý µðÁöÅÐ Æ®À©À» È°¿ëÇÑ °¨¼Ó±âÀÇ °ÇÀü¼º ¿¹Ãø°ü¸® ¾È¿µ±Ô(¢ßżº¿¡½º¿£ÀÌ)
 PHM Korea 2024 ¿ì¼öÆ÷½ºÅÍ»ó
 ¹°¸® Á¤º¸ ¹Ý¿µ Àû´ëÀû »ý¼º ½Å°æ¸Á ±â¹Ý º£¾î¸µ °íÀå °¡»ó µ¥ÀÌÅÍ »ý¼º¿¡ °üÇÑ ¿¬±¸ ±è±Ô¹Î(¼º±Õ°ü´ëÇб³)
 ÃÊÀ½ÆÄ ½ÅÈ£ ±â¹Ý ¸®Æ¬ ÀÌ¿Â ¹èÅ͸® State-of-Charge ¿¹Ãø ±èÀÎÅÂ(¾ÆÁÖ´ëÇб³)
 Àü·ù-Áøµ¿ µ¥ÀÌÅÍ ±â¹Ý À¯¼º±â¾î °¨¼Ó±âÀÇ ±â¾î °íÀå Áø´Ü ¹× ºÐ·ù ±èÀç¿Ï(°Ç±¹´ëÇб³)
 CMP (Chemical-Mechanical Polishing) °øÁ¤ µ¥ÀÌÅ͸¦ È°¿ëÇÑ ÀΰøÁö´É ±â¹Ý ¿þÀÌÆÛ Àç·á Á¦°ÅÀ² ¿¹Ãø±â¼ú °³¹ß  ¹ÚÂù¿ø(Çѱ¹Ç¥ÁØ°úÇבּ¸¿ø)
 ÇÏÀ̺긮µå ¿¹Ãø ±â¹ýÀ» ÅëÇÑ Åº¼Ò ¼¶À¯ º¹ÇÕÀç·áÀÇ ÀÜ¿© À¯È¿ ¼ö¸í µµÃâ ¿À¼Ò¿µ(¿ï»ê°úÇбâ¼ú¿ø)
 Comparative Study of Prognostics and Health Management Application Methods in an Isolated Gate Bipolar Transistor ÀÌÁؼ·(Çѱ¹´º¿åÁÖ¸³´ëÇб³)
 ¿ø°Ý °Ë»ç¸¦ À§ÇÑ ½Ç½Ã°£ µðÁöÅÐ Æ®À© »ý¼º È¥ÇÕÇö½Ç ½Ã½ºÅÛ ÀåÇѹü(Çѱ¹´º¿åÁÖ¸³´ëÇб³)
 CFRP º¹ÇÕÀçÀÇ Ãþ°£ºÐ¸® ŽÁö¸¦ À§ÇÑ ¼³¸í°¡´ÉÇÑ ÀΰøÁö´É ¹× ÀüÀÌÇнÀ Àû¿ë ÃµÀ¯ºó(µ¿±¹´ëÇб³)
 Å¸ÀÌ¾î ¸¶¸ð¿¡ ´ëÇÑ ½Ç½Ã°£ »óÅ Áø´ÜÀ» À§ÇÑ ½Ã½ºÅÛ ¼³°è¿Í Áøµ¿ ¹× ¼ÒÀ½ µ¥ÀÌÅÍ ºÐ¼® È«±æ(°Ç±¹´ëÇб³)



½Ã»óÀº Â÷±â Çмú´ëȸ¿¡¼­ ½Ã»óÇÒ ¿¹Á¤ÀÔ´Ï´Ù.

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ÀÌÀü±Û [ºÎ°æ´ëÇб³] 2025Çг⵵ 1Çбâ(3¿ù1ÀÏ ÀÓ¿ë) ÀüÀÓ±³¿ø ä¿ë
´ÙÀ½±Û [±â´Ü¿¬] 2024 ¿ÃÇØÀÇ 10´ë ±â°è±â¼ú ¿Â¶óÀÎ ÅõÇ¥ ¾È³»